二元微透镜阵列采用先进的半导体微纳加工工艺,通过2至16阶浮雕台阶结构精密逼近理想光学曲面。该技术可在0.248μm至10μm的宽光谱范围内工作,支持圆形、矩形、六边形等多种单元构型,口径覆盖0.01mm至4mm。选用石英、硅、锗等材料基底,衍射效率高达95%,兼具高精度与高性价比。其卓越的光束匀化、分束与波前调控能力,是激光加工、3D传感、光场成像及红外制导等高端系统的核心光学元件,为现代光电应用提供高效解决方案。
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二元微透镜列阵
二元微透镜列阵指的是利用台阶状的面形结构来趋近于连续浮雕结构的微透镜列阵。该元件利用二元掩模通过多次套刻完成多个台阶结构的制备,可制备结构指标参数如下:
波段范围:0.248μm ~10μm;
子口径形状:圆形、矩形、正六边形、环形等
子透镜口径:0.01mm~4mm
透镜材料:石英、硅、锗、硒化锌等
典型台阶数:2、4、8、16
衍射效率:75%~95%
波长(μm) | 子口径(μm) | 子口径形状 | 焦距(mm) | 列阵数 | 基片尺寸(mm) |
1.064 | 275×275 | 四边形 | 8 | 30×30 | φ14×3 |
1.064 | 1000×1000 | 四边形 | 30 | 16×16 | φ30×5 |
0.55 | 1680(平行对边) | 六边形 | 29.7 | 37×37 | φ14×3 |
0.5 | 1680(平行对边) | 六边形 | 69.8 | 7×9 | φ20×3 |
1.064 | 1750×1750 | 正方形 | 90 | 6×6 | φ20×3 |
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